| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
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光束偏轉(zhuǎn)解決方案匯總
在激光應(yīng)用中，我們經(jīng)常需要對(duì)激光光束進(jìn)行偏轉(zhuǎn)控制。光束偏轉(zhuǎn)控制主要分為機(jī)械式與非機(jī)械式兩種方式。衡量光束偏轉(zhuǎn)器件的性能指標(biāo)，主要有偏轉(zhuǎn)速度、偏轉(zhuǎn)角、角度分辨率、光損耗、適用的光波段范圍、損傷閾值等。
光束偏轉(zhuǎn)解決方案匯總
昊量光電提供各種實(shí)現(xiàn)光束偏轉(zhuǎn)的解決方案，包括一維偏轉(zhuǎn)與二維偏轉(zhuǎn)，機(jī)械式光束偏轉(zhuǎn)與非機(jī)械式光束偏轉(zhuǎn)，提供的器件包括：振鏡、多面轉(zhuǎn)鏡、MEMS掃描鏡、聲光偏轉(zhuǎn)器、電光偏轉(zhuǎn)器、液晶相控陣、液晶偏振光柵等。
光束偏轉(zhuǎn) 激光光束偏轉(zhuǎn) 光束偏轉(zhuǎn)控制 Beam Deflection, Beam Steering
在激光應(yīng)用中，我們經(jīng)常需要對(duì)激光光束進(jìn)行偏轉(zhuǎn)控制。光束偏轉(zhuǎn)控制主要分為機(jī)械式與非機(jī)械式兩種方式。衡量光束偏轉(zhuǎn)器件的性能指標(biāo)，主要有偏轉(zhuǎn)速度、偏轉(zhuǎn)角、角度分辨率、光損耗、適用的光波段范圍、損傷閾值等。不同的光束偏轉(zhuǎn)方案在以上性能指標(biāo)上都有各自的特點(diǎn)，分別適用于不同的應(yīng)用。
昊量光電提供各種實(shí)現(xiàn)光束偏轉(zhuǎn)的解決方案，包括一維偏轉(zhuǎn)與二維偏轉(zhuǎn)，機(jī)械式光束偏轉(zhuǎn)與非機(jī)械式光束偏轉(zhuǎn)，提供的器件包括：振鏡、多面轉(zhuǎn)鏡、MEMS掃描鏡、聲光偏轉(zhuǎn)器、電光偏轉(zhuǎn)器、液晶相控陣、液晶偏振光柵等。
不同的應(yīng)用對(duì)光束偏轉(zhuǎn)的要求不盡相同。而不同的光束偏轉(zhuǎn)器件有著不同的特點(diǎn)，主要體現(xiàn)在適用波長(zhǎng)范圍、偏轉(zhuǎn)角度大小、偏轉(zhuǎn)速度、通光孔徑、角度分辨率、損傷閾值等?；诙嗄甑慕?jīng)驗(yàn)積累與各種光束偏轉(zhuǎn)方案的專業(yè)知識(shí)，昊量光電根據(jù)客戶的要求，可推薦提供合適的光束偏轉(zhuǎn)解決方案。
各種光束偏轉(zhuǎn)方案主要參數(shù)：
| 器件名稱 | 適用波長(zhǎng)范圍 | zui大偏轉(zhuǎn)角度 | zui快偏轉(zhuǎn)速度 | 損傷閾值 | 主要特點(diǎn) |
| 振鏡 | 355nm~12um | ~40度 | 亞毫秒級(jí) | 中等 | 精度高 |
| 多面轉(zhuǎn)鏡 | 355nm~12um | 360度 | 亞微秒級(jí) | 很高 | 速度快 損傷閾值高 |
| MEMS掃描鏡 | 425nm~1600nm | 70度 | 微秒級(jí) | >2W (可能更高，取決于鏡面大小與工作波長(zhǎng)) | 體積小、重量輕、功耗低、偏轉(zhuǎn)角度大、與驅(qū)動(dòng)電壓線性度好 |
| 聲光偏轉(zhuǎn)器 | 266nm~1100m | 88 毫弧度 | <5us | 50MW/cm^2 | 無(wú)機(jī)械振動(dòng) 速度快 性價(jià)比高 |
| 電光偏轉(zhuǎn)器 | 240~1100nm | 4-5 毫弧度 | 100MHz（3.5ns 上升下降沿） | 500W/cm² for CW Laser 150MW/cm² for Pulsed Laser | 高速度 線性精確可控 用在生物成像光鑷等領(lǐng)域 |
| 液晶相控陣 | 400~1620nm | ±7度@1550nm | >500Hz | 10W/cm2 for CW laser 10MW/cm2 for Pulsed Laser | 偏轉(zhuǎn)角度大，效率高 |
| 液晶偏振光柵 | 458nm~1550nm | +/-40度 | <1ms | / | 通光孔徑大、偏轉(zhuǎn)角度大、效率高、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單
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